(foto-zetinrichtingen B41B; fotogevoelige materialen of processen voor de fotografie G03C; elektrografie, gevoelige lagen of processen G03G)
Aantekening
In deze subklasse worden de volgende termen of uitdrukkingen gebruikt met de aangegeven betekenissen: - “fotogevoelig” betekent niet alleen gevoelig voor elektromagnetische straling maar tevens voor lichaamsstraling; - “fotogevoelige samenstellingen” dekt fotogevoelige substanties, bijv. chinondiaziden, en, indien van toepassing, bindmiddelen of additieven; - “fotogevoelige materialen” dekt de fotogevoelige samenstellingen, bijv. de middelen die bestand maken tegen licht, de dragers waarop zij zijn aangebracht en, indien van toepassing, hulplagen. [5]
G03F 1/00
Bereiden van originelen voor het fotomechanische produceren van getextureerde of gepatroneerde oppervlakken (fotomechanische processen in het algemeen G03F 7\5) [3]
Aantekening
In deze subklasse is de prioriteitsregel voor de eerste plaats van kracht, d.w.z. op elk hiërarchisch niveau wordt geklasseerd in de eerst toepasselijke plaats, tenzij anders staat vermeld. [12,15]
G03F 1/02
door fotografische processen voor het produceren van originelen waarmee een reliëf wordt nagebootst
G03F 1/04
door fotomontageprocessen
G03F 1/06
uit drukvlakken [5]
G03F 1/08
Originelen met anorganische beeldlagen, bijv. chroommaskers G03F 1\5 heeft voorrang) [5]
G03F 1/10
door het belichten en uitwassen van gepigmenteerde of gekleurde organische lagen; door het kleuren van macromoleculaire patronen [5]
G03F 1/12
door het belichten van zilverhalidehoudende fotogevoelige materialen of fotogevoelige diazomaterialen [5]
G03F 1/14
Originelen die worden gekenmerkt door structurele details, bijv. ondersteuningen, toplagen of huidringen [5]
G03F 1/16
Originelen met openingen, bijv. voor corpusculaire lithografie [5]
G03F 1/20
Maskers of mask blanks ten behoeve van beeldvorming met behulp van straling met een geladen deeltjesbundel [CPB], bijv. Met een elektronenbundel; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/22
Maskers of mask blanks ten behoeve van beeldvorming met behulp van straling van 100nM of een kortere golflengte, bijv. maskers voor röntgenstraling of voor extreme ultravioletstraling [EUV]; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/24
Reflectiemaskers; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/26
Faseverschuivingsmaskers [PSM]; Mask blanks daarvoor; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/28
met drie of meer verschillende fasen op dezelfde PSM; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/29
Rand PSM of zijsteun PSM; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/30
Afwisselende PSM, bijv. een Levenson-Shibuya PSM; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/32
Afzwakkende PSM [att-PSM], bijv. een halftoon-PSM of een PSM met een halfdoorlatend faseverschuivingsdeel; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/34
Faserand-PSM, bijv. een chroomloze PSM; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/36
Maskers met benaderingscorrectiekenmerken; Bereiding daarvan, bijv. ontwerpprocessen met optische benaderingscorrectie [OPC] [12]
G03F 1/38
Maskers met extra kenmerken, bijv. speciale coatings of met markeringen voor ujtlijnen of testen; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/40
Kenmerken met betrekking tot elektrostatische ontlading [ESD], bijv. antistatische coatings of een geleidende metaal-laag rondom de buitenrand van het maskersubstraat [12]
G03F 1/42
Kenmerken met betrekking tot uitlijnen of registreren, bijv. uitlijningsmarkeringen op de maskersubstraten [12]
G03F 1/44
Kenmerken met betrekking tot testen of meten, bijv. rasterpatronen, focusmonitoren, zaagtandschalen of nokkenschalen [12]
G03F 1/46
Antireflectiecoatings [12]
G03F 1/48
Beschermende coatings [12]
G03F 1/52
Reflectoren [12]
G03F 1/54
Vangers, bijv. Niet-doorschijnende materialen [12]
G03F 1/56
Organische vangers; bijv. fotolakken [12]
G03F 1/58
met twee of meer verschillende vanglagen, bijv. gestapelde meerlaagse vangers [12]
G03F 1/60
Substraten [12]
G03F 1/62
Films of filmstelsels, bijv. Met een membraan op een steunframe; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/64
gekenmerkt door de frames, bijv. de opbouw of het materiaal daarvan [12]
G03F 1/66
Speciaal aangepaste houders voor maskers, mask blanks of films; Bereiding daarvan [12]
G03F 1/70
Aanpassen van de basisopzet of het basisontwerp van maskers aan de eisen van lithografische processen, bijv. tweede iteratiecorrectie van maskerpatronen ten behoeve van beeldvorming [12]
G03F 1/72
Repareren of corrigeren van maskerfouten [12]
G03F 1/74
met een geladen deeltjesbundel [CPB], bijv. een elektronenbundel [12]
G03F 1/76
Patroneren van maskers door beeldvorming [12]
G03F 1/78
met een geladen deeltjesbundel [CPB], bijv. een elektronenbundel [12]
G03F 1/80
Etsen [12]
G03F 1/82
Hulpprocessen, bijv. reinigen [12]
G03F 1/84
Inspecteren [12]
G03F 1/86
met een geladen deeltjesbundel [CPB] [12]
G03F 1/88
bereid door fotografische processen voor het maken van originelen waarop reliëf wordt nagebootst [12]
G03F 1/90
bereid door montageprocessen [12]
G03F 1/92
bereid vanaf drukoppervlakken [12]
G03F 3/00
Scheiden van kleuren; Corrigeren van de toonwaarde (fotografische kopieerapparatuur in het algemeen G03B)
G03F 3/02
door retoucheren
G03F 3/04
door fotografische middelen
G03F 3/06
door maskeren
G03F 3/08
door foto-elektrische middelen
G03F 3/10
Controleren van de kleur of toonwaarde van scheidingsnegatieven of scheidingspositieven
G03F 5/00
Rasterprocessen; Rasters daarvoor
G03F 5/02
door projectiemethoden (camera's G03B)
G03F 5/04
waarbij het rastereffect verandert
G03F 5/06
waarbij het diafragma-effect verandert
G03F 5/08
gebruikmakend van lijnrasters
G03F 5/10
gebruikmakend van kruislijnrasters
G03F 5/12
gebruikmakend van andere rasters, bijv. korrelrasters
G03F 5/14
door contactmethoden
G03F 5/16
gebruikmakend van grijshalftoonrasters
G03F 5/18
gebruikmakend van kleurhalftoonrasters
G03F 5/20
gebruikmakend van rasters voor fotogravure
G03F 5/22
waarbij diverse rasters worden gecombineerd; Elimineren van een moiré-uitvloeiing
G03F 5/24
door meervoudige belichting, bijv. gecombineerde processen voor een lijn-foto en een raster
G03F 7/00
Fotomechanisch, bijv. foto-lithografisch, produceren van getextureerde of gepatroneerde oppervlakken, bijv. bedrukte oppervlakken; Materialen daarvoor, bijv. met middelen die bestand maken tegen licht; Speciaal aangepaste apparatuur daarvoor (zie bij gebruikmaking van structuren die bestand maken tegen licht voor speciale productieprocessen de relevante plaatsen, bijv. B44C, H01L, bijv. H01L 21\5, of H05K) [3,5]
G03F 7/008
Aziden G03F 7\5 heeft voorrang) [5]
G03F 7/012
Macromoleculaire aziden; Macromoleculaire additieven, bijv. bindmiddelen [5]
G03F 7/016
Diazoniumzouten of diazoniumverbindingen G03F 7\5 heeft voorrang) [5]
G03F 7/021
Macromoleculaire diazoniumverbindingen; Macromoleculaire additieven, bijv. bindmiddelen [5]
G03F 7/022
Chinondiaziden G03F 7\5 heeft voorrang) [5]
G03F 7/023
Macromoleculaire chinondiaziden; Macromoleculaire additieven, bijv. bindmiddelen [5]
G03F 7/025
Niet-macromoleculaire foto-polymeriseerbare verbindingen met driedubbele koolstof-koolstofbindingen, bijv. acetyleenverbindingen G03F 7\5 heeft voorrang) [5]
G03F 7/027
Niet-macromoleculaire foto-polymeriseerbare verbindingen met dubbele koolstof-koolstofbindingen, bijv. ethyleenverbindingen G03F 7\5 heeft voorrang) [5]
G03F 7/028
met substanties die de fotogevoeligheid vergroten, bijv. foto-initiatoren [5]
G03F 7/029
Anorganische verbindingen; Oniumverbindingen; Organische verbindingen met ander hetero-atomen dan zuurstof, stikstof of zwavel [5]
G03F 7/031
Organische verbindingen die niet vallen onder groep G03F 7\5 [5]
G03F 7/032
met bindmiddelen [5]
G03F 7/033
waarbij de bindmiddelen polymeren zijn die worden verkregen door reacties waarbij sprake is van alleen onverzadigde koolstof-koolstofbindingen, bijv. vinylpolymeren [5]
G03F 7/035
waarbij de bindmiddelen polyurethanen zijn [5]
G03F 7/037
waarbij de bindmiddelen polyamiden of polyimiden zijn [5]
G03F 7/04
Chromaten G03F 7\5 heeft voorrang) [5]
G03F 7/06
Zilverzouten G03F 7\5 heeft voorrang) [5]
G03F 7/07
gebruikt voor diffusie-overdracht [5]
G03F 7/075
Silicium-houdende verbindingen [5]
G03F 7/085
Fotogevoelige samenstellingen die worden gekenmerkt door niet-macromoleculaire additieven voor het bevorderen van de kleefkracht G03F 7\5 heeft voorrang) [5]
G03F 7/09
gekenmerkt door structurele details, bijv. ondersteuningen of hulplagen (steunen voor drukplaten in het algemeen B41N) [5]
G03F 7/095
met meer dan één fotogevoelige laag G03F 7\5 heeft voorrang) [5]
G03F 7/105
met substanties, bijv. indicatoren, voor het vormen van zichtbare afbeeldingen [5]
G03F 7/11
met toplagen of tussenlagen, bijv. verzuringslagen [5]
G03F 7/115
met ondersteuningen of lagen met middelen voor het verkrijgen van een rastereffect of voor het verkrijgen van een beter contact bij vacuümafdrukken [5]
G03F 7/12
Produceren van rasterdrukvormen of soortgelijke drukvormen, bijv. sjablonen
G03F 7/14
Produceren van lijmdrukvormen
G03F 7/16
Coatingprocessen; Apparatuur daarvoor (aanbrengen van coatings op dragermaterialen in het algemeen B05; aanbrengen van fotogevoelige samenstellingen op de drager voor de fotografie G03C 1\5)
G03F 7/18
Coaten van gebogen oppervlakken
G03F 7/20
Belichten; Apparatuur daarvoor (fotografische afdrukapparatuur voor het maken van kopieën G03B 27\5) [4]
G03F 7/213
Tegelijkertijd belichten van verschillende posities van hetzelfde oppervlak met hetzelfde lichtpatroon G03F 7\5 heeft voorrang) [4]
G03F 7/22
Opeenvolgend belichten van verschillende posities van hetzelfde oppervlak met hetzelfde lichtpatroon G03F 7\5 heeft voorrang) [4]
G03F 7/23
Automatische middelen daarvoor [4]
G03F 7/24
Gebogen oppervlakken
G03F 7/26
Verwerken van fotogevoelige materialen; Apparatuur daarvoor G03F 7\5 tot G03F 7\5 hebben voorrang) [3,5]
G03F 7/28
voor het verkrijgen van poederafbeeldingen G03F 3\5 heeft voorrang) [5]
G03F 7/30
Beeldgewijze verwijderen waarbij gebruik wordt gemaakt van vloeibare middelen [5]
G03F 7/32
Vloeistofsamenstellingen daarvoor, bijv. ontwikkelaars [5]
G03F 7/34
Beeldgewijze verwijderen door selectieve overdracht, bijv. door afstropen [5
G03F 7/38
Behandelen vóór het beeldgewijze verwijderen, bijv. voorbakken [5]
G03F 7/40
Behandeling ná het beeldgewijze verwijderen, bijv. bakken [5]
G03F 7/42
Afstropen of middelen daarvoor [5]
G03F 9/00
Registreren of positioneren van originelen, maskers, frames, fotografische vellen of getextureerde of gepatroneerde oppervlakken, bijv. automatisch G03F 7\5 heeft voorrang; bereiden van fotografische maskers G03F 1\5; in fotografische afdrukapparatuur voor het maken van kopieën G03B 27\5) [4]